一种wafer可调心对位装置及其对位方法制造方法及图纸

本发明专利技术属于半导体晶圆工艺处理技术领域，具体地说是一种wafer可调心对位装置及其对位方法，上吸附盘体安装于高温真空腔体内的顶部，升降pin固定在高温真空腔体的底部、且位于上吸附盘体的下方；伸缩杆为多个，高度方向位于上吸附盘体与升降pin之间，并沿圆周方向设置于升降pin的外围，升降pin在机械手送入上wafer或下wafer时上升至各伸缩杆中间；伸缩杆均安装在冷却平台上，伸缩杆包括沿圆方向顺序设置的固定挡位伸缩杆A、固定挡位伸缩杆B、支撑伸缩杆B、缓冲挡位伸缩杆B、notch挡位伸缩杆、缓冲挡位伸缩杆A及支撑伸缩杆A。本发明专利技术实现了在高温真空腔内的调心对位，解决了视觉与定心对位无法在高温真空腔内应用的难题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体晶圆工艺处理，具体地说是一种wafer可调心对位装置及其对位方法。

技术介绍

1、目前，市面上键合工艺半导体生产设备，经常用到视觉对位或定心对位结构。视觉对位主要采用视觉相机或拍摄正片wafer(晶圆)或拍摄wafer边缘进行晶圆圆心定位，再通过xyw三轴对位平台将wafer平移至目标位置。而自动定心对位结构则是通过连杆结构实现三点或四点同步夹持wafer边缘，再同步打开，确保wafer与目标圆心重合。

2、因键合工艺需在高温真空环境下进行，而视觉对位在高温真空环境下存在一定局限性，无法满足200℃高温和10^(-4)pa真空的使用环境，这就使视觉对位系统无法安装在高温真空腔体内部。而定心对位结构虽然可在高温真空腔体内实现定心动作，但因键合工艺限制，避免后续工艺异常，往往需要键合的上下wafer在notch口(槽口)处进行错位定位，故而定心对位也无法满足要求。

技术实现思路

1、针对现有键合工艺半导体生产设备所用对位结构存在的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种wafer可调本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种wafer可调心对位装置，位于高温真空腔体(1)中，其特征在于：所述可调心对位装置包括上吸附盘体(2)、冷却平台、升降pin(11)及伸缩杆，其中上吸附盘体(2)安装于高温真空腔体(1)内的顶部，所述升降pin(11)固定在高温真空腔体(1)的底部、且位于所述上吸附盘体(2)的下方；所述伸缩杆为多个，高度方向位于所述上吸附盘体(2)与升降pin(11)之间，并沿圆周方向设置于升降pin(11)的外围，所述升降pin(11)在机械手送入上wafer(12)或下wafer(13)时上升至各伸缩杆中间；所述伸缩杆均安装在冷却平台上，所述伸缩杆包括沿圆方向顺序设置的固定挡位伸缩杆A(4)...

【技术特征摘要】

1.一种wafer可调心对位装置，位于高温真空腔体(1)中，其特征在于：所述可调心对位装置包括上吸附盘体(2)、冷却平台、升降pin(11)及伸缩杆，其中上吸附盘体(2)安装于高温真空腔体(1)内的顶部，所述升降pin(11)固定在高温真空腔体(1)的底部、且位于所述上吸附盘体(2)的下方；所述伸缩杆为多个，高度方向位于所述上吸附盘体(2)与升降pin(11)之间，并沿圆周方向设置于升降pin(11)的外围，所述升降pin(11)在机械手送入上wafer(12)或下wafer(13)时上升至各伸缩杆中间；所述伸缩杆均安装在冷却平台上，所述伸缩杆包括沿圆方向顺序设置的固定挡位伸缩杆a(4)、固定挡位伸缩杆b(5)、支撑伸缩杆b(10)、缓冲挡位伸缩杆b(7)、notch挡位伸缩杆(8)、缓冲挡位伸缩杆a(6)及支撑伸缩杆a(9)。

2.根据权利要求1所述的wafer可调心对位装置，其特征在于：所述固定挡位伸缩杆a(4)与缓冲挡位伸缩杆b(7)之间的连线、固定挡伸缩杆b(5)与缓冲挡位伸缩杆a(6)之间的连线、支撑伸缩杆a(9)与支撑伸缩杆b(10)之间的连线相交于一点，且固定挡位伸缩杆a(4)与缓冲挡位伸缩杆b(7)之间的连线与固定挡伸缩杆b(5)与缓冲挡位伸缩杆a(6)之间的连线相垂直，所述notch挡位伸缩杆(8)位于缓冲挡位伸缩杆a(6)、缓冲挡位伸缩杆b(7)的中间。

3.根据权利要求1所述的wafer可调心对位装置，其特征在于：所述固定挡位伸缩杆a(4)、固定挡位伸缩杆b(5)、缓冲挡位伸缩杆a(6)、缓冲挡位伸缩杆b(7)及notch挡位伸缩杆(8)等高设置，且高于所述支撑伸缩杆a(9)及支撑伸缩杆b(10)的高度。

4.根据权利要求1所述的wafer可调心对位装置，其特征在于：所述冷却平台包括冷却平台a(3)及冷却平台b(48)，所述冷却平台a(3)与冷却平台b(48)均为圆环状、同心设置，所述冷却平台b(48)位于冷却平台a(3)的外围、且低于冷却平台a(3)；所述冷却平台a(3)及冷却平台b(48)结构相同，内部均设有冷却水道，所述冷却平台a(3)及冷却平台b(48)上均开设有与冷却水道相连的进水口和出水口；所述固定挡位伸缩杆a(4)、固定挡位伸缩杆b(5)、缓冲挡位伸缩杆a(6)、缓冲挡位伸缩杆b(7)及notch挡位伸缩杆(8)分别固定在冷却平台a(3)上，所述支撑伸缩杆a(9)及支撑伸缩杆b(10)分别固定在冷却平台b(48)上。

5.根据权利要求4所述的wafer可调心对位装置，其特征在于：所述升降pin(11)上端的外径小于冷却平台a(3)及冷却平台b(48)的内径。

6.根据权利要求1所述的wafer可调心对位装置，其特征在于：所述固定挡位伸缩杆a(4)与固定挡位伸缩杆b(5)的结构相同，均包括电缸a(16)、底座a(17)及推杆a(18)，所述底座a(17)固定在...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪明波，史册，王金龙，
申请(专利权)人：沈阳芯俐微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：