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本发明提供一种ＭＡＬＤＩ质谱分析用的试样架，所述试样架具有ＣｕＯ二次粒子作为激光吸收基质，所述二次粒子由平均粒径１００ｎｍ以下的ＣｕＯ一次粒子集合而成，并具有由构成最表层的一次粒子的形状所引起的凹凸表面。可使用的上述ＣｕＯ二次粒子的来源为，...该专利属于国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司授权不得商用。