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一种原位水蒸气生长装置，包括：反应腔，适宜于容纳待操作晶圆；加热器，适宜于对待操作晶圆进行热退火；主进气口，主进气口贯穿反应腔的侧壁；多个沟道进气口，沟道进气口的出气方向垂直待操作晶圆的表面，多个沟道进气口中，部分数量的沟道进气口围成内环，...
该专利属于中芯京城集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯京城集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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