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本技术提供了一种底盘及还原炉，属于多晶硅生产技术领域。该底盘包括盘体；第一电极组，至少具有14对第一电极，至少14对第一电极沿位于盘体上的第一环形圈间隔设置；第二电极组，至少具有14对第二电极，至少2对第二电极间隔设于第一环形圈上，至少12...
该专利属于包头旭阳硅料科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过包头旭阳硅料科技有限公司授权不得商用。

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