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本技术公开了一种清洗装置，应用于半导体技术领域，包括：清洗腔、保湿腔、清洗刷和传送装置；清洗腔设置有清洗刷第一进出口；保湿腔设置有保湿液进口和清洗刷第二进出口；保湿腔设置在清洗腔的外侧；清洗刷第一进出口和清洗刷第二进出口连通；传送装置和清洗...
该专利属于星钥半导体（武汉）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过星钥半导体（武汉）有限公司授权不得商用。

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