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本发明公开了一种紫外吸收剂改性的高抗辐照高力学性能高减反射SiO2薄膜的制备方法。以水杨酸苯酯为致孔剂、硅酸四乙酯和甲基三乙氧基硅烷为前驱体、无水乙醇为溶剂、硝酸为催化剂。先制备好SiO2溶胶，将溶胶涂敷在玻璃上，溶胶经干燥成为凝胶，再经热...
该专利属于天津工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津工业大学授权不得商用。

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