PS改性的高抗辐照高力学性能高减反射SiO2薄膜的制备方法技术

技术编号:46331343 阅读:11 留言:0更新日期:2025-09-09 19:10
本发明专利技术公开了一种紫外吸收剂改性的高抗辐照高力学性能高减反射SiO2薄膜的制备方法。以水杨酸苯酯为致孔剂、硅酸四乙酯和甲基三乙氧基硅烷为前驱体、无水乙醇为溶剂、硝酸为催化剂。先制备好SiO2溶胶,将溶胶涂敷在玻璃上,溶胶经干燥成为凝胶,再经热处理得到多孔纳米薄膜。薄膜在400‑1100nm光谱的透过率(镀膜玻璃的透过率)平均值为92.85%,比玻璃提高了4.35个百分点;薄膜表面硬度达到铅笔法最高级别9H,附着力也达到胶带法最高级别0级。紫外线辐照5000等效太阳时后薄膜的平均透过率为92.15%,仅下降0.7个百分点。本高抗辐照高力学性能高减反射薄膜制备方法工艺简单、适合产业化推广。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于减反射薄膜材料,具体涉及水杨酸苯酯(ps)改性的高抗辐照高力学性能高减反射sio2薄膜的制备方法。


技术介绍

1、太阳能作为一种清洁能源,一直以来都在能源发展战略中占据重要地位。太阳能资源丰富,可持续获得能源供给,是一种清洁无污染的可再生资源。太阳能电池是太阳能利用的主要手段之一,但太阳能电池一般都工作在户外,而且太阳能电站大多都在丘陵、山地或沙漠,环境恶劣。因此需要玻璃盖板防护太阳能电池避免受到外界环境的破坏。但玻璃盖板对入射光的反射损耗约为8-9%,严重降低了太阳能电池的光电转换效率。

2、为了更进一步提高玻璃盖板的透光性,通常会在其表面镀制减反射薄膜。减反射薄膜有单层膜、双层膜和多层膜之分。单层膜材料主要有sio2、mgf2和tio2等。根据减反射原理,四分之一波长厚度的单层薄膜只能对某一波长的光实现高的减反射,因而其减反射的光谱较窄。而双层多层减反射薄膜可以在较宽波长范围内实现低反射率,但会增加镀膜工艺的复杂性以及成本【solar energy,2021,217:29-39】。多孔薄膜的折射率可以由它的孔隙率调节,因而能更本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种紫外吸收剂水杨酸苯酯(PS)改性的高抗辐照高力学性能高减反射SiO2薄膜的制备方法,其特征在于,以PS为致孔剂、硅酸四乙酯(TEOS)和甲基三乙氧基硅烷(MTES)为前驱体,以浓硝酸作为催化剂;先将无水乙醇、TEOS、MTES、去离子水、硝酸、PS依次加入预先清洁过的烧杯,室温下磁力搅拌一段时间,然后进行水浴回流,冷至室温后经陈化得到所需溶胶;将溶胶涂敷在玻璃上,溶胶经干燥成为凝胶,再经热处理凝胶内的有机物挥发形成纳米孔洞,最终形成多孔纳米薄膜。

2.根据权利要求1所述一种PS改性的高抗辐照高力学性能高减反射SiO2薄膜的制备方法,其特征在于,致孔剂与溶胶的质量比为1...

【技术特征摘要】

1.一种紫外吸收剂水杨酸苯酯(ps)改性的高抗辐照高力学性能高减反射sio2薄膜的制备方法,其特征在于,以ps为致孔剂、硅酸四乙酯(teos)和甲基三乙氧基硅烷(mtes)为前驱体,以浓硝酸作为催化剂;先将无水乙醇、teos、mtes、去离子水、硝酸、ps依次加入预先清洁过的烧杯,室温下磁力搅拌一段时间,然后进行水浴回流,冷至室温后经陈化得到所需溶胶;将溶胶涂敷在玻璃上,溶胶经干燥成为凝胶,再经热处理凝胶内的有机物挥发形成纳米孔洞,最终形成多孔纳米薄膜。

2.根据权利要求1所述一种ps改性的高抗辐照高力学性能高减反射sio2薄膜的制备方法,其特征在于,致孔剂与溶胶的质量比为1∶10~1∶200,硅酸四乙酯、甲基三乙氧基硅烷、无水乙醇...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘俊成吴永红王珮
申请(专利权)人:天津工业大学
类型:发明
国别省市:

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