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本发明提供一种气体含量控制装置及激光退火设备，所述气体含量控制装置通过第一匀流结构，将主腔体内部的杂质气体从顶部排出，且避免形成死区，造成后续运行过程中不断有杂质气体掺混进高纯氮气中，第二匀流结构，使得主腔体能够从底部对曝光区域构建一个氮气...
该专利属于上海芯上微装科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯上微装科技股份有限公司授权不得商用。

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