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本发明公开了一种半导体清洗方法及系统，涉及半导体清洗技术领域，解决了现有技术难以对半导体上污染物叠加区域进行清洗的技术问题；本发明获取待清洗半导体上污染物叠加区域，以及获取污染物叠加区域的污染物信息；基于污染物信息，确定污染物叠加区域所需的...
该专利属于安徽人和智能制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽人和智能制造有限公司授权不得商用。

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