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本发明是一种基于遗传算法的电子束光刻版图校正方法，旨在通过优化版图设计提升曝光后图形的质量。本方法先读取待校正版图划分为多个矩形区域，并根据预设的像素大小映射为版图矩阵；然后计算能量分布矩阵，调整各矩形区域的尺寸进行全局校正至收敛；最后针对...
该专利属于中国科学院上海光学精密机械研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院上海光学精密机械研究所授权不得商用。

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