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本发明公开了一种正性光刻胶组合物及其应用，所述正性光刻胶组合物包含有聚硫醚高分子化合物以及光刻胶溶剂。所述聚硫醚高分子化合物包含如下结构：#imgabs0#所述聚硫醚高分子化合物由9摩尔份数的多核锑单元、7.0～9.0摩尔份数的二元硫醇、1...
该专利属于南开大学所有，仅供学习研究参考，未经过南开大学授权不得商用。

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