温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种晶圆氧化物去除及除气的装置、方法和工艺设备，装置包括：处理腔体，用于在第一温度和第一压力下，对晶圆进行第一时间的表面金属氧化物去除处理，和在第二温度和第二压力下，对同一个晶圆进行第二时间的去除表面氧气和水汽的除气处理；通过加...
该专利属于安泊智汇半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安泊智汇半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。