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本技术公开了一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统，全息光栅曝光装置包括全息干板、导光棱镜和光源组件，导光棱镜设于全息干板上，全息干板与导光棱镜之间设有匹配液层；导光棱镜上设有朝向全息干板的接触面，以及与接触面相邻的第一入光面；光源组件用于...
该专利属于奥提赞光晶（上海）显示技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过奥提赞光晶（上海）显示技术有限公司授权不得商用。

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