【技术实现步骤摘要】
本技术涉及全息光栅曝光，特别是涉及一种全息光栅曝光装置和全息光栅制备系统。
技术介绍
1、全息光栅作为一种衍射光学元件，因其易于制作、成本低廉，在满足布拉格条件的情况下可以达到较高的衍射效率，从而被广泛的应用。目前应用中大多是小尺寸的全息光栅，单次曝光即可形成，但随着衍射光波导的应用领域逐渐扩大，目前对于大尺寸的全息光栅也具有了较高的需求。大尺寸的全息光栅应用在光波导显示系统中，需要满足光线经全息光栅耦入后能够在波导内部全反射传播的条件；为满足这一特性，在制备过程中要求两束相干光的其中一束光以全反射角进入基底。
2、但是，现有的曝光工艺中，曝光装置都是直接向空气中射出光束并照射基底材料，光线直接从空气中进入基底材料，折射角度受限，难以满足波导用全息光栅的制备条件；另外，曝光装置的曝光位置固定，照射面积有限，在制备大尺寸的全息光栅时需要大尺寸元件或大幅度移动基底材料，操作不便。
3、因此，现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术的不足，本技术的...
【技术保护点】
1.一种全息光栅曝光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述第一光束垂直射向所述全息干板上背离所述导光棱镜的一侧；
3.根据权利要求1所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述光源组件包括：
4.根据权利要求3所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述第一反射组件包括第一驱动件和第一反射件，所述第一反射件用于反射所述第一光束；所述第一驱动件与所述第一反射件连接，用于驱动所述第一反射件沿所述第一光束射出所述分光镜的方向移动。
5.根据权利要求3所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述...
【技术特征摘要】
1.一种全息光栅曝光装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述第一光束垂直射向所述全息干板上背离所述导光棱镜的一侧；
3.根据权利要求1所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述光源组件包括：
4.根据权利要求3所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述第一反射组件包括第一驱动件和第一反射件，所述第一反射件用于反射所述第一光束；所述第一驱动件与所述第一反射件连接，用于驱动所述第一反射件沿所述第一光束射出所述分光镜的方向移动。
5.根据权利要求3所述的全息光栅曝光装置，其特征在于，所述第二反射组件包括第二驱动件和第二反射件，所述第二反射件用于反射所述第二光束；所述第二驱动件与所述第二反射件连接，用于驱动所述第二反射件沿所述第二光束射出所述分...
【专利技术属性】
技术研发人员：张梦华，李州，杨永泉，栗杰，祝陈晨，
申请(专利权)人：奥提赞光晶上海显示技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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