温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

公开了光掩模图案检查方法和系统及使用其制造显示装置的方法。该光掩模图案检查方法包括：通过基于光掩模设计数据执行第一曝光模拟来生成第一结果图像数据；通过基于通过拍摄实际光掩模而获得的光学图像数据执行第二曝光模拟来生成第二结果图像数据；以及基于...
该专利属于三星显示有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过三星显示有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。