光掩模图案检查方法和系统及使用其制造显示装置的方法制造方法及图纸

技术编号:45976201 阅读:9 留言:0更新日期:2025-08-01 18:40
公开了光掩模图案检查方法和系统及使用其制造显示装置的方法。该光掩模图案检查方法包括:通过基于光掩模设计数据执行第一曝光模拟来生成第一结果图像数据;通过基于通过拍摄实际光掩模而获得的光学图像数据执行第二曝光模拟来生成第二结果图像数据;以及基于第一结果图像数据和第二结果图像数据来生成用于实际光掩模的检查数据。

【技术实现步骤摘要】

实施例涉及光掩模图案检查方法和系统以及使用该光掩模图案检查方法和系统制造显示装置的方法,并且更具体地,涉及能够快速检查光掩模图案的光掩模图案检查方法和系统以及使用该光掩模图案检查方法和系统制造显示装置的方法。


技术介绍

1、显示装置通过接收关于图像的信息来显示图像。显示装置被用作诸如移动电话的小尺寸产品的显示器或者诸如电视的大尺寸产品的显示器。

2、显示装置中的电路或布线结构可以是微图案。这样的微图案通过光刻工艺和蚀刻工艺形成。对于光刻工艺,使用具有微图案的光掩模。因此,为了准确的显示装置加工,期望在光掩模制造操作期间检查光掩模图案。


技术实现思路

1、实施例包括能够快速检查光掩模图案的光掩模图案检查方法和系统。然而,实施例仅是示例,并且本公开的范围不由此限制。

2、另外的特征将部分地在下面的描述中阐述并且部分地将通过该描述而明显,或者可以通过实践本公开的呈现的实施例而获知。

3、在本公开的实施例中,光掩模图案检查方法可以包括:通过基于光掩模设计数据执行第一曝光模拟来生成第本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种光掩模图案检查方法,包括:

2.根据权利要求1所述的光掩模图案检查方法,其中,所述光掩模设计数据是用于所述实际光掩模的设计数据。

3.根据权利要求1和2中的任何一项所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第一结果图像数据的所述生成包括通过基于预先输入的曝光条件数据和所述光掩模设计数据执行所述第一曝光模拟来生成所述第一结果图像数据。

4.根据权利要求3所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第二结果图像数据的所述生成包括通过基于所述预先输入的曝光条件数据和所述光学图像数据执行所述第二曝光模拟来生成所述第二结果图像数据。

5.根据权利要求4所述...

【技术特征摘要】

1.一种光掩模图案检查方法,包括:

2.根据权利要求1所述的光掩模图案检查方法,其中,所述光掩模设计数据是用于所述实际光掩模的设计数据。

3.根据权利要求1和2中的任何一项所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第一结果图像数据的所述生成包括通过基于预先输入的曝光条件数据和所述光掩模设计数据执行所述第一曝光模拟来生成所述第一结果图像数据。

4.根据权利要求3所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第二结果图像数据的所述生成包括通过基于所述预先输入的曝光条件数据和所述光学图像数据执行所述第二曝光模拟来生成所述第二结果图像数据。

5.根据权利要求4所述的光掩模图案检查方法,其中,用于所述实际光掩模的所述检查数据的所述生成包括:

6.根据权利要求5所述的光掩模图案检查方法,其中,所述检查数据的基于所述差分图像的所述生成包括:

7.根据权利要求1和2中的任何一项所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第一结果图像数据的所述生成包括:

8.根据权利要求7所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第一结果图像数据的通过校正所述第一曝光结果图像的所述生成包括将所述第一曝光结果图像校正成具有与所述第二结果图像数据的分辨率相同的分辨率的灰度图像。

9.根据权利要求1和2中的任何一项所述的光掩模图案检查方法,其中,所述第二结果图像数据的所述生成包括:

10.根据权利要求9所述的光掩模图案检查方法,其中,对所述光学图像数据的所述预处理过程的所述执行包括:

11.一种光掩模图案检查系统,包括:

12.根据权利要求11所述的光掩模图案检查系统,其中,所述光掩模设计数据是用于所述实际光掩模的设计数据。

13.根据权利要求11和12中的任何一项所述的光掩模图案检查系统,其中,所...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵赞衡金泰俊苏淳换俞元善
申请(专利权)人:三星显示有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1