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本发明提供可实现抛光的抛光垫和用于该抛光垫的衬垫，该抛光可实现抛光表面的优异平坦性和在抛光后的膜厚度的均匀性，和同时实现高抛光速率，且还具有抛光物体如绝缘膜或金属膜的优异抛光均匀性。所述衬垫满足以下要求：在２３℃、静载荷２７．６ｋＰａ、频率...
该专利属于可乐丽股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过可乐丽股份有限公司授权不得商用。

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