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本发明公开一种晶圆缺陷检测方法、装置及电子设备，该方法包括：获取参考晶粒图像和待测晶粒图像；对参考晶粒图像推荐对准区域，并获取对准区域的对准模板图像；基于对准区域建立粗对准关注区，并根据参考晶粒图像和待测晶粒图像在粗对准关注区的图像的投影偏...
该专利属于上海御微半导体技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海御微半导体技术有限公司授权不得商用。

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