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本发明属于磁控溅射设备技术领域，公开了一种磁控溅射舱逃逸粒子捕捉罩及方法，包括：溅射舱体，及设置在溅射舱体内腔的捕集罩体；所述溅射舱体内腔顶部设置有靶材，内腔底部设置有用于带镀膜工件放置的基板支架，所述基板支架上设置有悬浮支架，所述悬浮支架...
该专利属于江西光腾微纳材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江西光腾微纳材料有限公司授权不得商用。

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