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本发明属于金属网栅技术领域，具体涉及一种超低衍射高屏效金属网栅及其制备方法，包括基底、第一随机化网栅金属层、第二随机化网栅金属层、第一透明介质层和第二透明介质层，所述第一随机化网栅金属层设置在基底上，所述第一透明介质层设置在第一随机化网栅金...
该专利属于中国电子科技集团公司第三十三研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第三十三研究所授权不得商用。

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