【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于金属网栅，具体涉及一种超低衍射高屏效金属网栅及其制备方法。
技术介绍
1、国内外关于金属网栅的抗衍射报道比较多，采用的技术主要有模拟裂纹的无序随机结构、对规则图形的无序随机结构、对规则图形的有序随机结构等。主要基于随机生成算法，通过引入随机因子，使高阶衍射能量在像面上均匀分布。但目前，采用数学解析表达式直接求解出的随机结构，还无法摆脱对网栅周期、单元尺寸、平面密铺方式等的制约，存在屏蔽效能或透光率衰退较大的突出问题，导致屏蔽效能普遍在30db以下，能同时实现高阶衍射能量0.1％和屏蔽效能大于40db、透光率80％的技术方案还未见报道，难以有效协调高清晰光学窗口低衍射、高透光与高屏效的矛盾。此外，传统周期性结构金属网栅常用的激光刻蚀、激光直写制备工艺还未过多考虑随机化金属网栅图形的输入和转换处理问题，尤其是针对曲面结构，存在加工难度大、效率低等问题。
技术实现思路
1、针对上述传统周期性结构金属网栅存在加工难度大、效率低的技术问题，本专利技术提供了一种超低衍射高屏效金属网栅及其
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1.一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：包括基底(1)、第一随机化网栅金属层(2)、第二随机化网栅金属层(4)、第一透明介质层(3)和第二透明介质层(5)，所述第一随机化网栅金属层(2)设置在基底(1)上，所述第一透明介质层(3)设置在第一随机化网栅金属层(2)上，所述第二随机化网栅金属层(4)设置在第一透明介质层(3)上，所述第二透明介质层(5)设置在第二随机化网栅金属层(4)上；
2.根据权利要求1所述的一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：所述基底(1)为高强度透明材料，采用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚酰亚胺(PI)、K9...
【技术特征摘要】
1.一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：包括基底(1)、第一随机化网栅金属层(2)、第二随机化网栅金属层(4)、第一透明介质层(3)和第二透明介质层(5)，所述第一随机化网栅金属层(2)设置在基底(1)上，所述第一透明介质层(3)设置在第一随机化网栅金属层(2)上，所述第二随机化网栅金属层(4)设置在第一透明介质层(3)上，所述第二透明介质层(5)设置在第二随机化网栅金属层(4)上；
2.根据权利要求1所述的一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：所述基底(1)为高强度透明材料，采用聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚碳酸酯(pc)、聚酰亚胺(pi)、k9玻璃或红外玻璃中的一种，透光率大于91％，强度大于4mpa。
3.根据权利要求1所述的一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：所述第一随机化网栅金属层(2)和第二随机化网栅金属层(4)的金属材料为纯金属薄膜材料，包括铜、银或镍铜合金中的一种，电阻率小于1.0×10-8ω·m；所述随机化网栅单元的基础图案包括正三角形、正方形、正六边形、正三角形与正六边形组合或正方形与正六边形组合，所述基础图案的正多边形网栅线宽为3μm-10μm，初始周期为100μm-200μm。
4.根据权利要求1所述的一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：所述随机化网栅单元的顶点随机化处理具体为：在基础图案的数学解析表达式中引入顶点随机化因子，使随机边长的杂化强度为正多边形初始边长的50％-150％，随机圆周直径的杂化强度为正多边形初始边长的20％-40％。
5.根据权利要求1所述的一种超低衍射高屏效金属网栅，其特征在于：所述第一透明介质层(3)为设置于第一随机化网栅金属层(2)和第二随机化网栅金属层(4)之间...
【专利技术属性】
技术研发人员：许晓丽，王腾，张小刚，刘琪，孙继伟，翟艳玉，崔邵睿，吴点宇，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第三十三研究所，
类型：发明
国别省市：
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