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本发明公开了一种OPC修正模型的建模方法及基于该建模方法建立的OPC修正模型对待修正图形进行OPC修正的OPC修正方法，通过建立具有不同图形密度的OPC测试图形并进行晶圆光刻工艺得到不同图形密度下其对应的实际图形CD值并计算实际值与预设值之...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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