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本发明提供一种溅射靶，其是包含含有铟（Ｉｎ）、及至少一种以上选自钆（Ｇｄ）、镝（Ｄｙ）、钬（Ｈｏ）、铒（Ｅｒ）及镱（Ｙｂ）中的元素的氧化物的烧结体的溅射靶，其中，所述氧化物的烧结体实质上包括方铁锰矿结构。...
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