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一种光刻控制方法、控制装置、光刻系统及存储介质、电子设备。所述方法包括：利用第一机器学习模型，确定初始光刻参数，并发送至光刻设备，以控制所述光刻设备按照所述初始光刻参数执行当前光刻操作；监测所述光刻设备在执行当前光刻操作过程中光刻过程数据，...
该专利属于浙江创芯集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江创芯集成电路有限公司授权不得商用。

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