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本发明涉及半导体技术领域，公开了一种异质集成电光调制器件及其制备方法，制备方法包括：在第一衬底一侧表面形成凹槽，填充凹槽形成保护层，在保护层背向第一衬底的一侧表面依次形成埋层和电光材料层，形成电光材料晶圆；在第二衬底一侧表面依次形成包层、波...
该专利属于国科光芯金杏（北京）实验室科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过国科光芯金杏（北京）实验室科技有限公司授权不得商用。

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