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本技术公开了一种半导体晶圆清洗设备，包括回收槽和支撑架，所述回收槽的顶端安装有支撑架，所述支撑架的内部设置有旋转框架，所述旋转框架的内壁上安装有多组喷洒管，且喷洒管延伸至旋转框架的内部并与旋转框架连通，所述喷洒管的侧壁上安装有等间距的多组喷...
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