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本发明提供一种监控光刻胶残渣缺陷的方法，所述方法包括：提供一光罩版图，其包括光刻胶显开较小的区域；对所述光罩版图进行扫描计算以获取其具有的缺陷信息，且在扫描时仅扫描光刻胶显开较小的区域，其中，所述缺陷信息包括光刻胶的残渣缺陷信息及其他缺陷信...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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