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本发明提供一种光刻掩膜版、制备方法及改善光刻机镜头过热的方法，在光刻掩膜版中添加可覆盖曝光区的透光吸热层，通过该透光吸热层可有效吸收光照产生的热量，进而可减弱光刻机镜头过热的问题，提高生产效率，降低生产成本，且可有效提高产品良率。...
该专利属于芯恩（青岛）集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芯恩（青岛）集成电路有限公司授权不得商用。

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