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本发明提供了一种衬底研磨方法以及研磨机台。所述方法包括：提供一衬底；将所述衬底置于一载台上，所述载台表面为平坦表面；在所述载台表面和衬底的背面之间通入液体使衬底悬浮；冷却以在所述载台表面和衬底的背面之间形成冷冻层；研磨所述衬底的正面；升温使...
该专利属于上海超硅半导体股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海超硅半导体股份有限公司授权不得商用。

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