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本发明涉及晶圆表面抛光和化学机械抛光液技术领域，具体涉及一种用于β‑SiC精抛抛光液及其制备方法，所述抛光液包括磨粒、还原剂、增稠剂、抑菌剂、pH调节剂和去离子水；所述还原剂为无机金属盐、多羟基醛中的至少一种；所述pH调节剂为有机糖醛酸；所...
该专利属于烟台显华高分子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过烟台显华高分子材料有限公司授权不得商用。

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