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由式（Ⅰ）代表的化合物：其中Ｒ↑［１］是低级烷基、环烷基或芳烃环，其各自可选地由一个或多个取代基取代；Ｒ↑［２］是氢原子、卤原子、低级烷基、卤（低级）烷基或低级烷氧基；和Ｒ↑［３］是（１）由下式代表的基团：其中Ｒ↑［４］是低级烷基等；（２）...该专利属于安斯泰来制药有限公司;湧永制药株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过安斯泰来制药有限公司;湧永制药株式会社授权不得商用。
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由式（Ⅰ）代表的化合物：其中Ｒ↑［１］是低级烷基、环烷基或芳烃环，其各自可选地由一个或多个取代基取代；Ｒ↑［２］是氢原子、卤原子、低级烷基、卤（低级）烷基或低级烷氧基；和Ｒ↑［３］是（１）由下式代表的基团：其中Ｒ↑［４］是低级烷基等；（２）...