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本发明提供了一种薄膜沉积设备及其产能优化方法。所述薄膜沉积设备包括设备前端模块、锁存腔、多组沉积执行组件、缓冲腔及控制器。所述控制器，被配置为：根据所述第一工作时长、所述第二工作时长、所述第三工作时长、所述第四工作时长及所述第五工作时长中的...
该专利属于拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司授权不得商用。

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