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本发明涉及抛光机技术领域，具体公开了一种高精密双面研磨抛光机，包括抛光台及其上设置的抛光垫；还包括：收集腔，安装于所述抛光台边侧，收集腔内部与抛光台台面边缘的凹槽贯通，并且收集腔内部设有限制抛光液流通及转向的阻隔器，并且阻隔器上远离收集腔和...
该专利属于靖江市艾研精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过靖江市艾研精密机械有限公司授权不得商用。

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