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本发明涉及单晶硅腐蚀处理技术领域，特别是涉及一种单晶硅样品腐蚀系统及其腐蚀工艺，腐蚀系统包括腐蚀槽、载料盒和盖板，腐蚀槽内盛载有腐蚀液，腐蚀槽分为内槽和外槽。本发明设置了内槽、外槽和载料盒，在腐蚀作业时，使得外槽内的腐蚀液定向流入到内槽内，...
该专利属于龙门实验室所有，仅供学习研究参考，未经过龙门实验室授权不得商用。

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