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本发明涉及单晶硅制造技术领域，尤其涉及一种基于工艺分析的硅掺杂剂挥发补偿评估方法及系统，包括：获取单晶硅拉制过程中的掺杂目标指令，并对其进行解析，获得各个拉制阶段的掺杂剂目标浓度值和掺杂剂目标均匀特征值；针对各个拉制阶段，设置对应的监测频率...
该专利属于苏州晨晖智能设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州晨晖智能设备有限公司授权不得商用。

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