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本发明公开了一种高分辨率纳米压印凸模板的制备方法，涉及半导体加工技术领域，具体法包括以下步骤：提供衬底，衬底的表面包括功能区域和非功能区域，功能区域包括有效区域和无效区域，对衬底进行处理，在衬底的表面涂布光刻胶，烘烤，曝光，显影，以在衬底的...
该专利属于湖大粤港澳大湾区创新研究院（广州增城）所有，仅供学习研究参考，未经过湖大粤港澳大湾区创新研究院（广州增城）授权不得商用。

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