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本发明公开了一种基板加工方法、制造方法和基板加工装置。具体公开了一种加工基板的方法，该方法包括：将用于去除设置在基板上的锗化硅(SiGe)的刻蚀剂供应到基板，该刻蚀剂用刻蚀化学品和刻蚀抑制剂制备，其中，通过调节在刻蚀剂的制备中使用的刻蚀化学...
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