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本发明涉及集成电路生产领域，特别是涉及一种光学邻近校正方法、装置、设备及存储介质，通过接收待处理掩膜图形；将所述待处理掩膜图形输入预训练的可预测随机效应的光学邻近校正模型，输出对应的平均光刻胶图像；根据预设的随机效应模型参数，降低与提高所述...
该专利属于华芯程（杭州）科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华芯程（杭州）科技有限公司授权不得商用。

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