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金属氧化物半导体电容器制造技术
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文档序号:45460216
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一种金属氧化物半导体(MOS)电容器可以包括:衬底,该衬底包括半导体材料;氧化物层,该氧化物层形成在衬底的第一表面的上方;电阻层,该电阻层形成在氧化物层的至少一部分的上方;以及导电层,该导电层形成在电阻层的至少一部分上。因此,MOS电容器可...
该专利属于京瓷AVX元器件公司所有,仅供学习研究参考,未经过京瓷AVX元器件公司授权不得商用。
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