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本申请涉及半导体工艺技术领域，具体涉及一种半导体工艺设备及气体分布组件。由于气体分布组件的布气通道有至少两个，布气阀结构中的主动磁性件能够带动从动磁性件运动，使从动磁性件改变布气通道的通流面积，从而调节布气通道中的气流量，改变气体的分布模式...
该专利属于中锃半导体（深圳）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中锃半导体（深圳）有限公司授权不得商用。

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