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本发明涉及半导体技术领域，解决了传统静电吸盘无法适用于复杂的刻蚀工艺环境，同时难以精确控制静电吸盘表面各处温度的技术问题，尤其涉及一种新型刻蚀静电吸盘、温度自适应控制装置及方法，包括划分区域、获取实时的温度数据、建立初始数学模型、优化初始数...
该专利属于迈睿捷（南京）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过迈睿捷（南京）半导体科技有限公司授权不得商用。

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