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本发明涉及技术领域，具体涉及一种X射线源先进复合靶材及其制备方法，包括：S1、选取的基材和基材压板，并对基材及基材压板进行清洗处理，之后，进行真空烘干处理；S2、将真空烘干后的基材放置在专用工装上，采用溅射方式在基材的内侧面上溅镀一层内薄膜...
该专利属于盛普锐斯科技（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛普锐斯科技（无锡）有限公司授权不得商用。

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