一种X射线源先进复合靶材及其制备方法技术

技术编号:45097330 阅读:30 留言:0更新日期:2025-04-25 18:35
本发明专利技术涉及技术领域,具体涉及一种X射线源先进复合靶材及其制备方法,包括:S1、选取的基材和基材压板,并对基材及基材压板进行清洗处理,之后,进行真空烘干处理;S2、将真空烘干后的基材放置在专用工装上,采用溅射方式在基材的内侧面上溅镀一层内薄膜,再采用溅射方式或化学气相沉积工艺在基材的外侧面上形成一层外薄膜,得到镀膜后的基材;S3、将镀膜后的基材与真空烘干后的基材压板之间进行真空钎焊连接,钎焊温度控制在450‑550℃范围内,得到复合靶材。该复合靶材具有优异的性能,能够很好的兼顾了匀热与散热效率,将焦点处集中的热量向X、Y方向传导扩散;解决了现有技术中存在的现有的靶材匀热性能差、散热效果不好等问题。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及x射线源制造,特别涉及一种x射线源先进复合靶材及其制备方法。


技术介绍

1、x射线源,又称光管,是x射线类检测设备中不可缺少的核心组件之一,主要承担着发射x射线的功能,其性能直接影响检测设备的检测质量和效率。x射线源主要包括开管和闭管两种结构类型;其中,开管x射线源的电子是直接打到靶材上的,使其释放的x射线直接穿透样品;并且开管x射线源带有真空泵、真空阀,在其射线源损坏需要维修时,可以更换阴极和阳极。开管x射线源所用的靶材是开管x射线源的核心部件之一,对开管x射线源的性能具有重要的影响,并且主要体现在对x射线功率密度和对x射线通过性方面的关键性影响。因此,开管x射线源对其靶材的性能要求主要集中在既要耐受更高的功率密度,又要对x射线有较高的通过性;此外,靶材作为开管x射线源的结构件之一,也需要具有足够的强度。现有的开管x射线源用靶材通常是在单一的基材上直接蒸镀钨膜制造而成,所选基材一般都是对x射线有相对较好的通过性,并且具有相当强度的耐热性的金属或非金属基材,例如铍、铝和金刚石等等;这些靶材虽然具有结构简单等特点,但由于受基材材料本身的物理性能本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种X射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种X射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述铝合金材质为铝硅合金、锌铝合金、锆铝合金、钛铝合金中的任意一种;所述基材压板的外侧面设置呈鳍片状结构;

3.根据权利要求2所述的一种X射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述内薄膜与所述基材之间还设置有过滤层;所述过渡层的厚度为8-12nm;

4.根据权利要求1所述的一种X射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述内薄膜的厚度为1-3um。

5.根据权利要求1所述的一种X射线源先进复合靶材...

【技术特征摘要】

1.一种x射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种x射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述铝合金材质为铝硅合金、锌铝合金、锆铝合金、钛铝合金中的任意一种;所述基材压板的外侧面设置呈鳍片状结构;

3.根据权利要求2所述的一种x射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述内薄膜与所述基材之间还设置有过滤层;所述过渡层的厚度为8-12nm;

4.根据权利要求1所述的一种x射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述内薄膜的厚度为1-3um。

5.根据权利要求1所述的一种x射线源先进复合靶材的制备方法,其特征在于:所述外薄膜为石墨烯膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:毛庆全杨沛
申请(专利权)人:盛普锐斯科技无锡有限公司
类型:发明
国别省市:

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