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本技术涉及旋涂技术领域，具体提供一种旋涂装置。旨在解决现有旋涂装置无法自动控制旋涂腔内的氛围而影响成膜效果的问题。为此，本技术的旋涂装置包括主体、旋涂托盘和吸附膜，主体上形成有旋涂腔，以使旋涂过程能够在旋涂腔中进行；旋涂托盘设置在主体的内底...
该专利属于电子科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过电子科技大学授权不得商用。

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