温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本申请公开了一种掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品，涉及半导体集成电路技术领域。该掩模版图的处理方法包括：对目标掩模版图进行光刻规则检查，得到目标掩模版图的目标版图特征信息；通过缺陷修正模型对目标版图特征信息进行处理，得到目标掩模版...
该专利属于深圳晶源信息技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳晶源信息技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。