温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种半导体陶瓷板薄铜蚀刻液及其制备方法，该蚀刻液由硫酸、过硫酸钠、改性氮杂环加速剂、表面活性剂和去离子水等原料组成，本发明在改性氮杂环加速剂与配比中其它原料的协同作用下，不咬蚀钛金属，只对铜金属形成蚀刻效果，蚀刻后的陶瓷基板线路...
该专利属于信丰超淦科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过信丰超淦科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。