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本发明公开了一种气体供给装置及成膜装置，所述气体供给装置包括：底座；进气顶盖，其设置在底座的顶端上；水冷板，其设置在底座上；第一分区环组，其设置在气体分隔板上。第二分区环组，其设置在水冷板上。第三分区环组中部分分区环环绕所述第一分区环组，与...
该专利属于中微半导体（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体（上海）有限公司授权不得商用。

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