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本技术公开了一种氢化硅薄膜的制备系统，包括：真空镀膜腔室，用于提供真空镀膜环境；旋转装置，用于带动镀膜衬底进行旋转，设置于所述真空镀膜腔室内；氩气装置，用于提供真空镀膜用的氩气，设置于所述真空镀膜腔室外；氢气装置，用于提供真空镀膜用的氢气，...
该专利属于信利光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过信利光电股份有限公司授权不得商用。

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