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本发明属于投影光场调控技术领域，具体为一种投影式结构光掩膜图案可制造性增强方法及系统。根据目标结构光场和投影系统的倍率确定初始掩膜图案；采用矢量衍射成像模型计算初始生成结构光场，并计算目标函数的数值，判断是否满足预设阈值；若不满足，则采用最...
该专利属于华中科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过华中科技大学授权不得商用。

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