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本技术公开了一种防止溅射污染的离子束装置，包括离子源、静电透镜组件和约束磁场组件；离子源与静电透镜组件同轴设置，离子源的离子束出口面向静电透镜组件的离子束进口设置；约束磁场组件内形成有高强磁场，约束磁场组件的一侧形成离子汇聚入口，约束磁场组...
该专利属于上海芯戍精密装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海芯戍精密装备有限公司授权不得商用。

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